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電子半導體超純水系統

作者:admin   發布于:2008-10-26

 

超純水技術的發展主要是隨著半導體技術發展起來,隨著半導體大規模集成電路、8吋、12吋晶圓的運用,對超純水技術的要求

 

愈加嚴格,不僅僅限于電阻率18.1MΩ.cm at 25 甚至18.2MΩ.cmTOC、DO、SiO2、Particle、各種離子指標也有更高的

 

要求。


 

 常規水質指標:

 

電阻率:18.1MΩ.cm at 25

 

TOC:   5 ppb

 

顆粒:(0.1um):5 pcs/mL

 

SiO22 ppb

 

DO5 ppb

 

Na+50 ppt

 

細菌:1 cfu/L


 

 

工藝流程:

 

 

MMF+ACF(或:前處理UF)+Double Pass RO+TOC UV1+DO1+EDI+ TOC UV2+ DO2+Polisher 1+Polisher 2 +UF

 

 

 

 

 

 

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