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電子半導體超純水系統

Author：admin   Posted on：2008-10-26

超純水技術的發展主要是隨著半導體技術發展起來，隨著半導體大規模集成電路、8吋、12吋晶圓的運用，對超純水技術的要求

愈加嚴格，不僅僅限于電阻率≥18.1MΩ.cm at 25℃ 甚至18.2MΩ.cm對TOC、DO、SiO2、Particle、各種離子指標也有更高的

要求。

 常規水質指標：

電阻率：≥18.1MΩ.cm at 25℃

TOC:   ≤5 ppb

顆粒：（≥0.1um）：≤5 pcs/mL

SiO2：≤2 ppb

DO：≤5 ppb

Na+：≤50 ppt

細菌：≤1 cfu/L

工藝流程：

MMF+ACF(或：前處理UF)+Double Pass RO+TOC UV1+DO1+EDI+ TOC UV2+ DO2+Polisher 1+Polisher 2 +UF